電子ビームプロセスについて60年の経験、真空製膜について45年以上のノウハウを持つVON ARDENNEは、PVD薄膜テクノロジーと真空プロセステクノロジーに関する製品およびテクノロジーに関するリーディングサプライヤーの一つです。

VON ARDENNEは生産特性の要求を効率的ですぐれた製膜ソリューションに変えることができます。このソリューションは個々の装置コンセプトに欠かせない前提条件となっています。

VON ARDENNEは研究開発を自社で行うイノベーティブな企業です。国際的にそうした姿勢を貫くには知的財産の入念な取り扱いが必要です。こうした知的財産には、イノベーションや創造的なアイデア、発明などに関する第三者の知的財産権および私たち自身の知的財産も含まれます。

私たちの戦略では、現在の知的財産権に関する的を絞ったリサーチとともに私たち自身の技術的成果を継続的に保護することが必要になります。

当社は700件以上の国内および国際的な特許申請、特許、実用新案をすべての関連テクノロジー分野で持っています。

• 材質（ガラス、金属、シリコン、ポリマー膜、テキスタイル…）
• 形状（平面または3次元面）
• 特性（リジッドまたはフレキシブル）
• 基板幅（数mmから330cm）
• 基板長さ（数mmからロール・ツー・ロール製膜では数kmまで）

加熱、グロー放電、スパッタエッチング

ほとんどのＰＶＤ製膜プロセスはすぐれた密着性と層特性を得るのに十分な前処理を必要とします。基板層の組み合わせによっては、VON ARDENNEの装置を使用して様々な種類の前処理プロセスを行うことができます。

制御 加熱 はガラス、ウェブ、金属箔の基板から水や他の揮発性表面汚染を除去するのに使用します。加熱は輻射熱の加熱性能と放射波長範囲に応じて様々な種類の輻射ヒーターによって行われます。導電性基板に非常に高い加熱力が必要な場合は電子ビーム加熱が適用されます。

機能と提供内容

マグネトロンスパッタリングでは、中真空中またはある特定のガス雰囲気中で、磁場励起プラズマ放電を発生させます。ターゲットと呼ぶコーティング材へプラスに帯電した気体イオンを衝突させスパッタリングを発生します。飛び出したコーティング材粒子は、連続薄膜として基板上に成膜されます。マグネトロンスパッタ源を使うと、複雑な多層膜構造を大面積に均等に製膜できます。

マグネトロンスパッタリングのキーコンポーネントはマグネトロンです。VON ARDENNEでは装置に必要となるキーコンポーネントをすべて自社製造しています。

機能 & 経験

電子ビームは熱処理プロセスや金属/合金の溶融および蒸着に用いられるパワフルなツールです。

製膜プロセスの最初の段階では、電子ビームガンから真空中に偏光ビームが生成されます。このビームはルツボ内にある蒸着材料の表面に焦点が合わせられます。蒸着の際には、電子ビームのコーティング材への高出力衝撃により、高速の製膜をもたらす原子の流れが生まれます。

この蒸気流が製膜表面に定着して、機能薄膜が形成されます。このプロセスの間は、蒸気によって基板が移動することがあります。

シングル電子ビーム蒸着プロセスでは、マグネトロンスパッタリングの10～100倍の製膜速度を得ることができます。

VON ARDENNEは溶融、生成、蒸着または熱処理に使用される電子ビームシステムを開発・製造しています。

最初の電子ビームガンは1960年にマンフレート・フォン・アルデンヌ研究所で開発されました。VON ARDENNEの 60年以上にわたる 経験 は世界で設置されている400以上の電子ビームシステムに反映されています。

当社のEH150V、EH300V、EH800V電子ビームガンは世界で最も高出力です。当社の電子ビームテクノロジー開発センターではキーコンポーネントの絶え間ない改良に取り組んでいます。そしてここでVON ARDENNEの高品質電子ビームガンの製造・テストが行われています。

アプリケーション

• 金属、合金、化合物の高速蒸着
• 金属、合金、化合物の溶融
• 様々な材料、特に金属箔の熱処理（蒸着プラント、アニーリングの予熱）

PECVD & 熱蒸着

上記テクノロジーの他に、VON ARDENNEでは均一で信頼できる機能層を製膜できるよう当社の機械に装備できる2つのオプション、PECVDと熱蒸着を用意しています。

PECVD （プラズマ励起化学的気相成長）アプリケーションには、以下の製膜源が使用されます：

• CCP（容量結合プラズマ）
• ICP（誘導結合プラズマ）
• ホローカソード・プラズマランプ

熱蒸着には2種類の方法が使用されます：

• ボート蒸着
• ジェット蒸着

加熱処理は薄膜テクノロジーで電気または光学特性を向上するためにしばしば使われる方法です。しかし従来の加熱処理は時間がかかり、エネルギーを大量に消費しました。

さらに基板内に熱機械応力を発生させるので、不良につながる可能性があります。また、長時間の熱処理が必要になります。

これらの要素が薄膜テクノロジーでは熱拡散の原因となるので、バリヤー層の追加を要する場合があります。以上の対策により製造プロセスがより複雑かつ高コストとなります。

一方、フラッシュランプアニールには大きなメリットがあります。基板内に熱機械応力がわずかか、または全く発生しないので、熱拡散が抑制可能です。このように追加バリヤー層は不要です。

ガラス上の製膜に関する品質保証、品質モニタリング

• PV用機能製膜
• 光学製膜、低放射コーティング

光学特性評価とシート抵抗測定

VON ARDENNEは真空製膜の分野で45年以上の経験を持ち、小規模から大規模のシミュレーションまですぐれた専門ノウハウを持っています：

• 高度に最適化されたシステムパフォーマンス 
• コンポーネントデザインに基づく最高のプロセス品質を保証

当社では以下の作業のために最新鋭のモデリングとシミュレーションを用いてエンジニアリングの労力を減らし、製品とアップグレードの開発をを加速します：

• お客様毎にカスタマイズされた真空ソリューションの生産プラン
• 現行システムのアップグレード効果を事前調査

目的

お客様の研究開発を以下の方法でサポートします： 

• サンプルコーティング
• 新しい技術アプローチを含む評価
• コンポーネントの試験
• 設計のための実験実施およびデータ提供
• 装置の運用
• お客様と各研究機関との共同研究

VON ARDENNEの経験と専門ノウハウがお客様をサポートします。

当社の提供範囲：

• 機械デザインコンセプト 様々なアプリケーション用
  
• 豊富な経験 プロセスチェーンと顧客の現場での要求に機器を統合
  
• 実証済みの インラインおよびバッチ処理 様々な基板サイズで 
  
• 真空処理の 専門ノウハウ 50年以上の経験に裏づけられた 
  
• 真空コンポーネントの専門ノウハウ 強力なサプライヤーサポート
  
•  基板加熱および冷却 製膜プロセス前・中・後のソリューション
• プロセス ガスコントロールおよび分布システム 最高の層品質と均一性を実現
• システム コントロールソリューション - 工業標準と直感的なマンマシンインタフェースに基づいた
• 最大可運転時間 - 安全で安定した装置操業に関する上位の工業標準に基づく
• 保有コストの算出 - 装置設計コンセプトの選択を容易にする為の